茹国平

复旦大学微电子学院教授
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E-mail:gpru@fudan.edu.cn

 


主要经历:
1986年9月-1990年6月:南京大学物理系,学士学位
1990年9月-1995年8月:上海微系统与信息技术研究所,硕士、博士学位
1995年8月-至今:复旦大学微电子学院教师

代表性论文:
1. 黄巍,茹国平*,蒋玉龙,屈新萍,李炳宗,刘冉,Improvement of Er-silicide formation on Si(100) by W capping, Thin Solid Films, 516, 4252 (2008).
2. 王保民,茹国平*,蒋玉龙,屈新萍,李炳宗,刘冉,Characterization of Ni/Ho and Ni/Er fully silicided metal gates on SiO2 gate dielectric, Microelectronic Engineering, 85, 2032 (2008).
3. 许耀娟,茹国平*,蒋玉龙,屈新萍,李炳宗,Pt interlayer effects on Ni germanosilicide formation and contact properties, Applied Surface Science, 256, 305 (2009).
4. 茹国平*,俞融,蒋玉龙,阮刚,Thermal activation of current in an inhomogeneous Schottky diode with a Gaussian distribution of barrier height, Chinese Physics B, 19, No. 097304 (2010).
5. 李惟一,茹国平*,蒋玉龙,阮刚,Trapezoid mesa trench metal-oxide semiconductor barrier Schottky rectifier: an improved Schottky rectifier with better reverse characteristics, Chinese Physics B, 20, No. 087304 (2011).

 
 
 
 

 

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